Raster-Elektronen-Mikroskop (Zeiss EVO MA 25) mit EDX und EBSD
Das Großkammer Rasterelektronenmikroskop ist ein Hochleistungsgerät mit einer Auflösung von bis zu 2,0 nm. Es erlaubt auf einfache Weise schnell Aussagen über Zusammensetzung und Morphologie der Oberflächen von Präparaten bis zu einer Größe von 400 mm und einem Gewicht von 5 kg. Mittels des Niedervakuum-Modus können auch nicht-leitfähige Proben ohne Sputtern analysiert werden.
Das Bild zeigt einen Gleitlack auf einer Kunststoffprobe nach einem Gitterschnittest. Deutlich ist der sog. „Eierschaleneffekt“ des Lackes erkennbar.
Durch die angeschlossene moderne EDX-Anlage sind zudem auch analytische Untersuchungen in Mikrobereichen der Oberfläche möglich. Kombiniert mit der Kristallanalyse (EBSD) sind so sowohl chemische als auch strukturelle Analysen möglich.
| Geräteparameter | |
| Kathode | LaB6 oder Wolfram |
| Auflösung | 2,0 nm bei 30 kV; 12 nm bei 1 kV (UHV) |
| Vergrößerung | 5-fach bis 1.000.000-fach (bei technischen Proben max. 40.000-fach) |
| Druckbereich | Hochvakuum oder variabler Druck 10 bis 400 Pa |
| Probengröße / -gewicht | D bis max. 400 mm / 5 kg |
| Probenhöhe | max. 210 mm |
| Probenbühne | 5 Achsen voll motorisiert |
| EDX / EBSD | EDAX Pegasus XM2 |
| Software-Optionen | Partikelanalyse, Texturanalyse |